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膜厚測試儀主要用于測量薄膜或涂層材料的厚度。根據工作原理的不同，可以分為幾種類型，常見的有電渦流法、磁性法、X射線熒光法等。這些測試方法依賴于不同的物理原理來進行膜層厚度的測量。電渦流法通常用于非鐵金屬表面，而磁性法則專門應用于鐵磁性材料的膜層測量。無論是哪種類型的膜厚測試儀，都需要一些關鍵的耗材和附件來保證測量的精度和儀器的長期穩定運行。下面將詳細介紹常見的耗材和附件。主要耗材：1.探頭與傳感器探頭和傳感器是直接與待測物體表面接觸的核心部件。探頭根據不同的測量方式，通常分為...

教學橢偏儀作為一種重要的光學測量工具，廣泛應用于研究、材料分析以及工業測試領域。在教學中，不僅能幫助學生直觀理解光學原理，還能加深學生對光學薄膜、表面特性等物理現象的認識。針對教學需求設計的橢偏儀，通常具備一定的特殊設計特點，旨在簡化操作、提高實用性和適應性，幫助學生掌握科學實驗方法與數據分析技能。教學橢偏儀的設計不同于研究型和工業型橢偏儀，通常更注重易用性和教育功能。其設計理念主要體現在以下幾個方面：1.簡單易操作需要盡量簡化操作流程，減少過多復雜的設置，使學生能夠在較短的...

隨著半導體技術的快速發展，集成電路（IC）的制造工藝變得越來越精密，尤其是在薄膜沉積和刻蝕等工藝中，厚度控制顯得尤為重要。紅外干涉測厚儀作為一種高精度的非接觸式測量工具，在半導體制造過程中得到了廣泛應用。其原理基于紅外干涉現象，通過反射光波與薄膜表面之間的相位差來實現對薄膜厚度的測量。以下將分析紅外干涉測厚儀在半導體制造中的應用及優勢。1、高精度厚度測量在半導體制造中，薄膜的厚度對器件的性能具有直接影響。例如，在光刻、化學氣相沉積（CVD）、原子層沉積（ALD）等過程中，薄膜...

頤光科技為您精選了多款光譜橢偏儀、反射膜厚儀自研產品。光譜橢偏儀ME-L穆勒矩陣橢偏儀ME-L是一款全自動高精度穆勒矩陣光譜橢偏儀，擁有行業前沿的光路調制技術，采用半導體制冷式探測器，具有超高靈敏度和極快的信號采集速度，同時也包括消色差補償器、雙旋轉補償器同步控制、穆勒矩陣數據分析等。ME-Mapping光譜橢偏儀ME-Mapping光譜橢偏儀可以滿足大尺寸晶圓的多點自動化掃描測量需求，自定義繪制測量路徑，支持實時顯示膜厚分布以及數據匯總。設備采用雙旋轉補償器調制技術，直接測...

橢偏儀在AR衍射光波導行業中的應用AR衍射光波導是什么？目前，市面上較成熟的AR光學顯示方案主要有棱鏡方案、Birdbath方案、自由曲面方案和光波導方案等。各方案都有不同維度上的側重，但真正滿足AR產品需求的光學方案其實并不多。AR光學顯示方案特點缺點棱鏡方案可實現全彩顯示，技術成熟，價格便宜FOV不夠大，AR體驗感不強，無法做成眼鏡形態自由曲面方案成像色彩飽和、視場角大、功耗較低，體積適中比普通眼鏡更厚、重，外界透光率較低、圖像容易畸變Birdbath方案結構簡單、門檻低...

目錄01平板顯示行業測量介紹02平板顯示行業的量測意義03平板顯示行業的測量解決方案01平板顯示行業測量介紹平板顯示器件于20世紀60年代出現，主要包括液晶顯示器、發光二極管、等離子顯示板、電致發光顯示器等。目前液晶顯示LCD（LiquidCrystalDisplay）與有機電致發光顯示OLED（OrganicLight-EmittingDiode）為平板顯示行業主要顯示技術，占據行業絕大部分產值。檢測是面板生產過程的必要環節。面板顯示檢測的作用是在面板顯示器件的生產過程中進...